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LetiとEVG、ナノインプリントの優位性を示すINSPIREを発表

2015_07_INSPIRE_Preview1 July, 17, 2015, Grenoble/St. Florian―CEALetiとEV Groupは、INSPIRE、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)新規プログラムを発表した。これにより多様で強力なナノパタニング技術の優位性を実証し、半導体以外のアプリケーションにも普及拡大を狙う。  NILプロセスソリューション開発で産業協力実現に加えて、INSPIREプログラムは同技術が幅広いアプリケーション領域で所有コスト面での利点を実証できるように工夫されている。アプリケーションとしては、例えばフォトニクス、プラズモニクス、照明、太陽光発電、ウエファレベルオプテ

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光産業技術マンスリーセミナー11/18開催(車載光ファイバネットワークの現状と動向)--PR--

新製品

Revolution

再生増幅器の励起用及び産業応用向け 高出力Qスイッチパルスグリーンレーザ

掲載日:2015/6/24

米コヒレント社は、全固体QスイッチパルスグリーンレーザEvolutionシリーズの次世代モデルとしてRevolutionシリーズをリリースした。 新モデルRevolutionシリーズは、より高出力、よ

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