サファイア・ダイヤモンド等透明材料、難加工性材料や
半導体・樹脂材料等に高品位・超精密・高精度な微細加工。
内部加工・多層構造材料加工、マイクロナノ構造の作成。
最大出力：>20W, 最大エネルギー：>4mJ@1030nm
パルス幅：100fs～20ps PC制御可変
繰返し周波数：シングルショット～1MHz
本体に直付け高調波：515/343/257/206nm
★PHAROS I-OPA (産業用グレードOPA)：レーザ
　ヘッドに直付けできる波長変換ユニット
★BiBurst オプション

定評のあるPHAROS機能をそのままに、サイズを
劇的に小型化したタイプ。レーザ発振部、電源、
冷却装置を集約したワンボックス型。材料に合わせて
最適な動作条件を選択出来る。
最大出力：6W・100μJ(空冷), 120W・2mJ(水冷)
パルス幅：190fs～20ps PC制御可変
繰返し周波数：シングルショット～2MHz(水冷)　
自動切換高調波：515/343/257nm 50W-UVモデル
★CARBIDE I-OPA (産業用グレード)　
★BiBurst オプション

PHAROSシリーズのオシレータのみを自在に使用
できるフェムト秒光源として提供。優れたビーム出力方向安定性。
最大平均出力：20W, 0.6μJ@76MHZ
繰返し周波数：11MHz, 20MHz, 40MHz, 76MHz
パルス幅：<50fs

ORPHEUS (190nm-16μm, >80W, >2mJ)
OREPHEUS-Twins 2 波⻑独⽴可変モデル (210nm-16μm)
ORPHEUS-ONE 中⾚外⾼エネルギーモデル（>80W, 2mJ）
ORPHEUS-N ノンコリニア超短パルスモデル(<30fs)
ORPHEUS-PS 狭帯域ピコ秒モデル(1-4ps, <20cm^-1)
ORPHEUS-F 近⾚外ショートパルスモデル(40fs@1300nm)
ORPHEUS-MIR 広帯域ハイブリッドモデル(<100fs, 2mJ, 2500-10000nm)

●深部イメージング用一体型フェムト秒レーザ
●全自動波長チューニングとGDDコントロール機能
●高安定パルスエネルギー、長時間出力安定性確保
●３光子イメージングに最適な専用波長1300nm
●多波長チューニング対応可(1250～1800nm)
●シングルショット～2MHz
●パルス幅：<50fs