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グラフェンベーステラヘルツアブソーバ

Vitello 4

September, 20, 2017, Cambridge--イタリアCNR-Istituto NanoscienzeとUK ケンブリッジ大学(University of Cambridge)のGraphene Flagship研究者は、液相剥離によって作られ、転写式塗布とインクジェットプリンティングによって堆積されるグラフェンを使って、テラヘルツ可飽和吸収体を作製できることを示した。Nature Communicationsに発表された論文は、今日までに造られた他のデバイスよりも1桁高い吸収変調を持つテラヘルツ可飽和吸収体を報告している。
 テラヘルツ可飽和吸収体は、光強度が強まるテラヘルツ領域で光吸収を減少させ、テラヘルツレーザ開発に大きな潜在力がある、アプリケーションは分光学やイメージング。これらの高変調、モードロックレーザは、短い時間スケールの励起が重視されるアプリケーションに多くの可能性を開く。例えば、ガスや分子の時間分解分光学、量子情報、超高速通信などである。
「われわれは、過飽和テラヘルツ吸収体への取組みを始めた。変調特性がよく、薄くて柔軟な集積コンポーネントを持つ微小モードロックテレヘルツレーザを作製するという問題を解決することが目的である」とイタリア、CNR-Istituto NanoscienzeのMiriam Vitielloは話している。
 グラフェンは、有望な可飽和吸収体である。本質的に広帯域動作であり、超高速リカバリタイムだからである、それとともにケンブリッジ大学で超高速赤外レーザで初めて実証されたように、製造も集積も容易である。論文では、テレヘルツ波領域で、液相剥離によって作製されたグラフェンを利用している。これは、量産に適した方法であり、インクを用意して、転写式塗布あるいはインクジェットプリンティングによって簡単に堆積される。
 超高速パルスをテラヘルツ領域で生成するためにモードロックレーザを使うことは、興味深く、すばらしい利用法である。「これらのデバイスは、TOFトポグラフィが重要な際の医療診断にアプリケーションがある、組織内部の腫瘍をみることができる」とVitielloはコメントしている。