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KLA-Tencor、新たなレチクル検査技術を発表

August, 23, 2016, Milpitas--KLA-Tencor Corporationは、10nm以降のマスク技術に対応したTeron 640、Teron SL655およびレチクルデシジョンセンター(RDC)の3つの高度なレチクル検査装置を発表した。これらの3つのシステムは、現世代および次世代のマスク設計の実現には不可欠のものであり、これらによって、マスクショップおよびICファブは、リソグラフィ上の重要かつ歩留まりに甚大な損傷を及ぼす欠陥をより効率的に特定することができる。
 革新的なデュアルイメージング技術を利用することで、Teron 640検査装置は、マスクショップに必要な感度を提供し、高度な光学マスクの適格性を正確に確認することを可能にする。Teron SL655検査装置は、新たにSTARlightGoldテクノロジを導入し、ICメーカによるレチクル品質の受け入れ検査、レチクル劣化のモニタ、歩留まりに重大な影響を及ぼすレチクルの欠陥検出を可能にする。Teron検査装置によって得られた総合的なレチクル品質測定値は、自動で欠陥処理決定を行う広範囲な機能を有するRDCデータ解析および管理システムによって裏付けされ、サイクルタイムの改善、歩留まりに影響を与えるレチクル関連パターンエラーを軽減する。
 「スペーサー支援四重パターニング(SAQP)のような今日の複雑なパターニング技術は、日々複雑化しているマスクを使用しており、最適なウエハパターニングを行うには、レチクルの状態を評価し、維持することが重要である」と、KLA-Tencorのレチクル製品部門(RAPID)担当副社長兼本部長Yalin Xiong, Ph.D.は、話している。「われわれのチームでは、現世代と次世代の双方のマスク設計に対応する最新のレチクル検査とデータ解析の技術を開発してきた。Teron 640とTeron SL655によって生成された豊富なデータセットをRDCの評価機能と結合させることによって、マスクショップとICファブは、リソグラフィ上の重大なレチクルの欠陥をより効率よく特定し、それによってマスク品質管理を改善して、より優れた製造上のパターニングが得られるようになっている」。
 マスクショップ向けTeronレチクル検査プラットフォームに基づいたTeron 640は、デュアルイメージングモードによる193nm照度を利用した高度な光マスクの検査をサポートしている。これは、高解像度検査とウエハへの転写の可能性をベースにした欠陥処理の空中イメージングを組み合わせたものである。さらに、Teron 640では、高度なダイとデータベースの比較検査アルゴリズムが向上しており、欠陥への感度を最大限にするとともに、結果が判明するまでの時間を短縮する新たにスループットを高めるオプションも用意されている。複数のTeron 640レチクル検査装置は、ファウンドリやロジック製造業者に設置され、高性能レチクル品質管理が行われている。
 Teron SL655のコアテクノロジであるSTARlightGoldは、受け入れ品質検査において、マスクからゴールデンリファレンスを生成し、この基準値を使用して、マスクの再確認の検査を行う。この独自のテクノロジは、フィールド全体のレチクルをカバーするとともに極めて複雑な光学的近接技術を利用したものも含め、幅広いマスクタイプにわたってヘイズ成長や汚染などの欠陥を最大限に検出する。Teron SL655は業界屈指の量産スループットにより、高度のマルチパターニングに必要な大量レチクル確認の早いサイクルタイムをサポートする。さらに、Teron SL655はEUVと互換性があるので、ファブ内のEUVレチクル検査要件に関してICメーカとの連携作業が可能。Teron SL655装置は、レチクル受入品質管理とチップ製造時のレチクルの適格性の再確認に関して、ICメーカと評価中である。
(詳細は、www.kla-tencor.com)