Edmund Optics® HP+およびHPi+シリーズ固定焦点レンズで
2025年度インスペクトアワード3位を受賞(エドモンド・オプティクス・ジャパン)
MKS、最大100 kWまで測定可能な高エネルギーレーザーシステム用の
高精度なOphir® 70K-Wパワーレーザーセンサーを発表(オフィールジャパン)
MKSが次世代のNewport™ ODiate®蛍光フィルターセットを発表 -蛍光イメージングシステム向け高精度マルチバンド光学フィルター-(スペクトラ・フィジックス)
MKSが新型Talon® APX UVレーザーを発表 -15~30Wの範囲で業界をリードする水準のUV寿命を実現-(スペクトラ・フィジックス)
santec AOC、1kWクラスの近赤外線レーザー加工向けLCOS型空間光変調器「SLM-310」を発表(santec AOC)
オーシャンフォトニクス、Admesy社製二次元輝度計の販売開始 (オーシャンフォトニクス)
エドモンド・オプティクス、受賞歴のある透過型グレーティングで深紫外ポートフォリオを拡大(エドモンド・オプティクス・ジャパン)
MKS Instruments Inc.、社名を「MKS Inc.」に変更したことを発表(日本エム・ケー・エス)
MKSが高速マーキング、コーディングアプリケーション向けの 新型Talon® Mark UVレーザーを発表(スペクトラ・フィジックス)
エドモンド・オプティクス、光干渉断層計用と拡散反射ファントムの追加で、
製品ポートフォリオを光学部品枠外に拡張(エドモンド・オプティクス・ジャパン)
MKS、生産環境における高精度ビームコースティックおよびプロファイリング用
Ophir® BeamSquared® SP204S-PRO M2レーザービームアナライザーを発表(オフィールジャパン)
MKS、産業および防衛用途向け、費用対効果の高い
高精度・超高出力レーザーセンサー Ophir® 70K-Wを発表(オフィールジャパン)
Edmund Optics、son-x社を買収;
製造能力を拡大し、革新的な顧客ソリューションを提供(エドモンド・オプティクス・ジャパン)
MKS、産業および防衛用途向け高精度・超高出力レーザーセンサー
Ophir® 150K-Wを発表(オフィールジャパン)