超高温・大面積ナノ薄膜装置に開発

December, 15, 2021, 東京--東京大学大学院新領域創成科学研究科、同連携研究機構マテリアルイノベーション研究センター、同物性研究所、産業技術総合研究所、物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点（WPI-MANA）、協和界面科学株式会社の共同研究グループは、100℃を超える高温でも液体のイオン液体を用いたウエットプロセスである超高温Langmuir-Blodgett法（LB法）及び、自動で薄膜製造が可能な汎用的な製造装置の開発に成功した。
　この手法を200℃付近の超高温プロセスで電子輸送性が向上する有機半導体分子に適用した結果、高い配向性を有するナノ薄膜の大面積製造に成功した。

今回開発した超高温LB法及び汎用的な製造装置は、LB法の利点である、液面上での精緻な分子の集合体形成というコンセプトを踏襲しつつ、プロセス可能な温度域を大幅に拡張することができる。これまでプロセス温度の制約により検討されていなかった様々な分子の集合体形成が可能となり、分子を用いたエレクトロニクスへの応用研究が加速することが期待される。

研究成果は、米国科学雑誌「Langmuir」2021年12月7日版に掲載された。
(詳細は､https://www.k.u-tokyo.ac.jp)