NIL Technology､メタレンズ量産準備

September, 6, 2021, Copenhagen--NIL Technology (NILT)は､フラットオプティクスで画期的な性能を実証している｡完全なNIRカメラモジュールが､940nm単一メタレンズとNIRセンサを利用して構築されている｡デモンストレータと特注メタレンズは現在､プロトタイピング､出荷､量産準備完了となっている｡

10年以上､スマートフォンや他の製品で使われるカメラレンズに革命的な変化はなかった｡レンズは､まだ多数の大きな屈折レンズ､あるいは相互にスタックしたレンズ素子で構成されている｡NILTは､これらレンズシステムのサイズと複雑さを大幅に低減することでスマートフォンカメラに変革をもたらす使命を負っている｡

この最初のデモンストレーションは､単一メタサーフェスによる940nm近赤外(NIR)波長イメージングレンズであり､スマートフォンや自動車のドライバーモニタリングで3Dセンシング､顔認証に使用される｡

シングルメタレンズは､1M、 Meta Optical Element (MOE)として紹介されたもので､その形状､性能､コンパクトさ､効率は画期的である｡それは､従来の屈折レンズに対してMOEsの唯一無比を確認するものである｡

･コンパクトさ｡MOEsは､屈折レンズよりもフラットで薄く､以前にはなかった簡素なレンズ｡
･優れた性能｡ MOEレンズは､広い視界､低F値､高MTF､高相対照度が全て低い総トラック長で達成された著しく優れたイメージング品質を実現｡
･費用対効果｡アセンブリコストと集積の複雑さ低減｡
･堅牢さ｡ガラス基板上のシリコンは､強力､熱安定的なレンズとなる｡

設計からデリバリまでわずか4週間
　NILTは､15年の高精度ナノ構造化の経験があり､これをMOEsの迅速プロトタイピング､量産で実現している｡プロトタイピングは､高品質電子ビームリソグラフィ(EBL)で達成され､これはDUV リソグラフィよりも大幅に迅速な納期が可能｡加えて､EBLは超高分解能であり､高度な設計自由度がある｡量産は､ナノインプリントリソグラフィ(NIL)で行われ､メタ原子形状(サイズ､形状､位置)の制約はなく､最高性能メタレンズを確実にしている｡加えて､ナノインプリントリソグラフィによりNILTは､半導体の形状や加工能力の制約なしで､量産できる｡

(詳細は､https://www.nilt.com)