ルンド大学､PhableR 100 DUVフォトリソグラフィシステム発注

April, 4, 2018, Kirchdorf--スイスのスタートアップ企業Eulithaは､スウェーデンのルンド大学(Lund University)から同社独自のPhableR 100 DUVフォトリソグラフィシステムを受注したと発表した｡
　Eulithaは､ナノテクノロジー､フォトニクスおよびオプトエレクトロニクス市場に画期的なリソグラフィ装置とサービスを提供している｡
　PhableR 100 DUV露光装置は､Eulitha独自のDisplacement Talbot Lithography技術を組み込んでいる｡これは､超高解像度周期的パターンのロバストプリンティングをローコストで可能にする技術｡ルンド大学が発注したシステムは､100nmよりも遙かに小さな印刷を可能にする193nm ArFエキシマレーザで動作する｡
　ルンド大学は､材料科学とナノ構造半導体アプリケーションで最先端に位置する｡新装置は､同大学のナノサイエンスセンタ､世界第一級のナノ製造ファシリティ､NanoLundが運用するLund Nano Lab (LNL)に設置される｡LNLには､80を超える加工装置が導入されており､これには様々なエピタキシャルシステム､パターニング装置や特性評価装置が含まれ､学術研究グループや産業の150を超えるユーザの要求に応えている｡
　Lund Nano Labのオペレーションマネージャ､Dr. Maria Huffmanは､Eulithaの装置でパターン形成された基板に成長したGaNナノワイヤについてのデータをHexagem ABと共有することに関して､｢これによりわれわれは装置を非常に効率的､効果的に評価することができる｡Displacement Talbot Lithographyシステムは､NanoLund研究コミュニティ内の様々な研究プロジェクトやアプリケーションにとって有用である｡それは､現在LNLにない機能を追加するだけでなく､スウェーデン内では他に存在しない装置でもある｣とコメントしている｡また同氏は､｢この装置によってわれわれは90-100nm範囲の形状サイズに対処できる｡これは研究コミュニティの全てのナノワイヤ成長に取り組んでいる研究者､特にLEDや太陽電池開発に携わっている人々には非常に魅力的である｡優位点は､これが非接触技術であり､影響を受けやすい基板に最適であることだ｣と話している｡
　PhableR 100 DUVシステムは､100nmを遙かに下回るサイズで周期的パターンを露光でき､これは遙かに高価な最先端のステッパーの性能に匹敵する｡特許となっている同技術のフォーカスフリーイメージングにより､フォトニックおよびオプトエレクトロニック分野で頻繁に用いられる非平坦基板に均一なプリンティングが可能である｡
(詳細は､www.eulitha.com)