Imecと三井化学、EUV露光用CNTペリクル技術商用化で戦略的提携

December, 28, 2023, Leuven--Imecと、日本の大手化学会社でEUVペリクルサプライヤ、三井化学は、極端紫外線(EUV)リソグラフィ用のカーボンナノチューブ(CNT)ベースのペリクルの商業化に関する戦略的パートナーシップの開始を発表した。
三井化学は、この提携により、imecのCNTをベースとしたペリクルの基盤技術と三井化学のCNTペリクル技術を統合し、2025年から2026年にかけての高出力EUVシステムへの導入を目指し、完全量産仕様を目指す。この調印は、セミコン・ジャパン2023の期間中、東京で行われた。

この戦略的提携により、メンブレンとEUVペリクルを共同開発し、三井化学での商品化を目指してimecによるコンサルテーションとEUVスキャナの評価を行う。これらのペリクルは、EUV露光中の汚染からフォトマスクを保護するように設計されており、非常に高いEUV透過率(≧94%)、非常に低いEUV反射率、および最小限の光学的影響を備えており、最先端の半導体製造における高歩留まりとスループットに不可欠な特性を備えている。さらに、CNTペリクルは1kWを超えるEUVパワーレベルにも耐えられるため、将来のEUV光源ロードマップ(>600W)をサポートする。これらの特性は、大量生産でEUVリソグラフィを使用する企業から強い関心を集めている。したがって、両社は、市場の要求に応えるため、産業対応CNTペリクルを共同開発する。

「Imecには、リソグラフィのロードマップを前進させるために半導体エコシステムをサポートしてきた長い歴史がある。2015年以来、imecはサプライチェーン全体のパートナーと協力して、高度なEUVリソグラフィ用の革新的なCNTベースのペリクル設計を開発した。CNT膜の計測、特性評価、特性、性能に関する深い知識は、三井化学の製品開発を加速させると確信している。われわれは共に、次世代のEUVリソグラフィのためにCNTペリクルを生産できるようになることを願っている」と、imecのアドバンストパターニング、プロセス、マテリアル担当シニアVP、Steven Scheerはコメントしている。

リソグラフィロードマップでは、2025年から2026年の時間枠、つまり次世代のASML 0.33NA EUVリソグラフィシステムが600W以上のパワーレベルの光源をサポートする新しいペリクルの導入を予測している。このタイムフレームは、2nmを超えるロジック技術ノードの挿入に関連している。