原子層成長法(ALD)市場規模、2025年までに30憶ドル

November, 27, 2017, Amsterdam--ASDレポーツ(ASDReports)の調査によると、原子層成長法世界市場は2025年までに30憶1000万ドルに達する見込みである。市場は、予測期間で大きく成長すると見られている。これは、複雑な半導体コンポーネント向けに、ナノレイヤ(nano-layers)の厚さ計測に相当するコンフォーマルコーティングの優れた成長効率によるものである。
　ALDは、半導体デバイス製造で重要な製造プロセスであり、またナノ材料合成に利用できる一連の装置の一部である。ALDは、薄いコンフォーマルフィルム製造のための重要な成長法の一つと考えられている。複雑な微小化コンポーネントに対する需要はナノテクノロジーの到来と相俟って、ALD市場の成長を後押ししている。
　薄膜成長市場には、化学気相法(CVD)、物理的蒸着装置(PVD)、スパッタリング及びエピタキシー装置など、他の主要技術もある。CVDが現在比較的大きな市場シェアを占めているが、先進的で特徴豊富なALDプロセスは独自の重要性を維持している。これは、高蒸着性能、浪費最小で高い生産速度のためである。CVDは、ALDの唯一の代替であるが、限定的である。また、それは原子層技術と同じ精密な膜適合性を実現できない。
　プラズマエンハンストALD(PEALD)は、その優れた出力特性と最速表面反応メカニズムレートのために、最速成長製品タイプになると予測されている。ALDは表面感度堆積プロセスであり、PEALDは、核生成を変えることができる、プラズマ露光により表面改質を強化する。PEALD堆積フィルムは、非常に優れた平坦性と均一性を持つ超薄型膜。世界のトップ企業による現在のプロセス開発力は、新しい、より高品質で高スループット、革新的誘電体材料供給に主に注力している。