JSRとimec、EUVリソグラフィ用フォトレジスト製造合弁会社を設立

February, 23, 2016, 東京/Leuven--JSR（JSR Corporation） とナノエレクトロニクス技術研究の先端的な研究機関である imecは、合弁会社「EUV Resist Manufacturing & Qualification Center N.V. (EUV RMQC)」を設立した。
EUV RMQCは、2015年5月12日に調印した基本合意書（LOI : Letter of Intent）に基づき、JSR 100％出資のグループ企業 JSR Micro N.V. が過半を出資し設立したもので、EUV リソグラフィ材料の製造・品質管理サービスを提供する。
　EUV（極端紫外線）リソグラフィ技術は、「ムーアの法則」で表される半導体の微細化・集積度向上の進展を 10nmより微細な世代においても推し進める主要技術の一つとして期待されている。EUV技術は半導体業界において実用化検討が加速しており、量産設備と品質保証体制の確立が必須となっている。 JSRとimec両社の強みを活かして、最先端デバイスを製造する半導体産業に対して EUV リソグラフィ材料技術を提供していく。
　EUV RMQC社長兼JSR Micro N.V.取締役工場長Bart Denturck氏は「EUV リソグラフィは半導体製造技術が今後も発展していく上で必須の技術である。今後の業界ニーズに応えるべく、グローバルリーダーとして半導体技術の発展を支えてきた2 社がお互いの技術を持ち寄り従来の発想を超えて取り組む。EUV RMQCは、高品質材料の製造技術と最先端の装置を用いた品質管理に関する専門性と技術サービスの提供を担っていく。われわれは、今回の提携を通じて、EUV リソグラフィ技術開発の促進に貢献することができると確信している」とコメントしている。
　imec 副社長An Steegen氏は、「EUV リソグラフィは今後の最先端半導体製造にとって重要な技術である。imecはEUVによる量産化技術確立のために、関係するサプライチェーンをサポートすることに注力している。最先端のクリーンルームに設置された最新式のEUV関連装置は、われわれの業界内での地位を確固たるものにしている。JSRとの合弁会社の設立により、材料メーカーに最先端の装置やプロセスを提供することになり、imecが以前から行っていた材料メーカーへのサポートをより一段進めることになる。これは、両社が持つ強みを合わせることによって半導体業界全体の目標達成に貢献できる良い例になると考える」と話している。