December, 7, 2015, Pune--マーケッツ&マーケッツ(MarketsandMarkets)の「フォトリソグラフィ装置市場、タイプ、光源、波長、地域-2020年までの予測」によると、フォトリソグラフィ装置市場は、2015-2020にCAGR4.3%で成長して、2020年には80億2000万ドルに達する見込みだ。
半導体産業の成長、先端技術装置に対する要求、政府の支援などの要素が、フォトリソグラフィ装置市場の主要な成長要因。さらに、高度なパッケージングアプリケーション向けのフォトリソグラフィ装置の採用が、この市場を成長させる膨大なチャンスになっている。
ArFi装置は、ダブルおよびマルチレイヤパタニング技術向けに半導体製造で広く使用されている。この装置は、他の装置と比較して比較的ローコストで入手できるので、フォトリソグラフィ市場のArFi装置は力強く成長している。
EUV装置は、2015-2020年のCAGR成長率が最高になると見られている。これは主にEUVが他の装置に対していくつかの利点があるためである。例えば、波長の改善、運用と保守コストの低下。EUVは、13nmオーダーの波長を生成する。これを利用して半導体デバイスを製造するので、製造メーカーはEUV装置を選好し始めている。
APACが最高市場シェアを維持
2014年、APACはフォトリソグラフィ装置市場で最大シェアを形成した。また、2015-2020年は最高CAGRで成長すると予測されている。この成長は、この地域の産業化と都市化の進展に起因する。さらに、中国、台湾、韓国(south Korea)などの国々における半導体製造能力拡大が、フォトリソグラフィ装置採用増の主因となっている。