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EVG、HB-LED向けローコストナノパタニングでEulitha AGと提携
January 13, 2011, St. Florian--EV Group(EVG)は、Eulitha AGと共同開発およびライセンス供与契約を締結した。
EVGは、MEMS、ナノテクノロジー、半導体市場にウェハボンディングやリソグラフィ装置を供給している。Eulithaは、リソグラフィ技術を用いてナノ構造を作製しているスイスのPaul Scherrer Instituteからのスピンオフ。
EVGは、EulithaのPHABLEマスクベースUVフォトリソグラフィをEVGの自動マスクアライナプラットフォームに統合して、所有コスト(CoO)の低いナノパタニングソリューションを実現し、HB-LED製造ができるようにすることを目標としている。すでに機能のデモンストレーションを行っており、製品の初出荷は今年後半の予定。
LED市場調査会社ストラテジーズ・アンリミッテド(Strategies Unlimited)によると、HB-LED市場は2010年の112億ドルから、2014年には162億ドルに成長する。市場成長の原動力はTVバックライト、モバイル機器などのアプリケーション、それに照明が加わる。
この増加した需要に応えるためにLEDメーカーは、製造コストを下げながら製品の照明効率を上げることができる新しい製造ソリューションを必要としている。両社の共同開発契約によりEVGとEulithaは、LEDメーカーのコストと技術要求をサポートする新しい製造技術を開発する。
Eulithaのフルフィールド露光技術とEVGの確立したマスクアライメントプラットフォームとを組み合わせると、ローコストで、自動化されたフォトニックナノストラクチャ製造が大規模に展開でき、エネルギー効率の優れたLED、太陽電池、LCDの製造をサポートできる。EVGは、PHABLE統合EVG620システムを同社のマスクアライメントシステムプラットフォームの拡張として提供していく。
(詳細は、www.evgroup.com)
