KLA-Tencorが、検査およびレビュー装置のポートフォリオを発表

July, 10, 2014, San Francisco--KLA-Tencor Corporationは、16nm以降のICデバイスの開発および量産を行うための高度な欠陥検査およびレビュー機能を提供する4つの新しいシステムとして2920シリーズ、Puma 9850、Surfscan SP5、およびeDR-7110を発表した。
　2920シリーズ広帯域プラズマパターン付きウェーハ欠陥検査装置、Puma 9850レーザスキャンパターン付きウェーハ欠陥検査装置、およびSurfscan SP5パターンなしウェーハ欠陥検査装置は、さらに高感度になり、スループットが大幅に向上している。これらの検査装置は、歩留まりにとって重要な欠陥の検出を可能にし、モニターすることで、半導体メーカが最先端のデザインノードで取り組んでいる複雑な構造、新しい材料、および新しいプロセスのインテグレーションをサポートする。各検査装置はeDR-7110電子ビームレビュー装置とシームレスに接続される。このレビュー装置は、改良された自動欠陥分類機能を利用して、検出された欠陥を速やかに特定し、対策を決定するための正確な情報を半導体メーカに提供する。
　第3世代の広帯域プラズマ照明光源を利用する2920シリーズパターン付きウェーハ検査装置では、前世代の製品に比べて光量が2倍に増加しており、新しい遠紫外光(DUV)波長帯域と業界最小の光学検査ピクセルの採用が実現している。新しい高度なアルゴリズムと共に、これらの光学モードは、FinFETなどの複雑なICデバイスアーキテクチャ上にあるわずかな突起、微細なブリッジ、その他のパターン欠陥に対する感度を向上する。さらに、2920シリーズの新しいAccu-rayおよびFlex Apertureテクノロジにより、重大な欠陥タイプを捕捉するための最適な光学設定を速やかに決定でき、プロセスおよびデザインの問題を検出して解決するのに必要な時間を大幅に短縮できる。
　多岐に渡り機能強化されたPuma 9850レーザスキャンパターン付きウェーハ欠陥検査装置では、広範囲の量産スループットにわたって感度が向上しており、多種多様なFinFETと高度なメモリ検査アプリケーションをサポートする。2920シリーズの検査装置を補完するPuma 9850では、より高感度の動作モードにより、現像後検査(ADI)、フォトセル監視(PCM)、前工程のライン＆スペースエッチングレイヤでの歩留まり関連の欠陥捕捉が容易になる。Puma 9650の最大2倍のスループットで動作する高速モードによって、成膜および化学機械平坦化(CMP)プロセスモジュールにおける異常をコスト効率よくモニターできる。
　Surfscan SP5パターンなしウェーハ検査装置には、量産スループットで20nm以降のデザインルールの欠陥感度を達成する、強化されたDUV光学テクノロジが組み込まれており、多層積層膜ICデバイスのインテグレーションを阻害する可能性のあるSi基盤やブランケット膜の微小な欠陥の検出が可能。前世代のSurfscan SP3と比較してスループットが3倍になったSurfscan SP5は、高い生産性を維持しながら、マルチパターニングやその他の最先端の製造手法により増加したプロセスステップの確認とモニターを可能にする。
　eDR-7110電子ビームレビュー装置は、新しいSEM自動欠陥分類(S-ADC)エンジンを備えている。このエンジンにより、量産時には欠陥集合を正確に分類でき、開発時には欠陥の検出に要する時間を大幅に短縮できる。さらに、eDR-7110は自動観察中にS-ADC結果から、組成解析（EDX）や他の観察条件を使った欠陥画像取得などの追加のインラインテストを自動的にトリガできる。これは、プロセスの決定のためにエンジニアに提供される欠陥情報の質を向上させる唯一の機能。
　2920シリーズ、Puma 9850、Surfscan SP5、eDR-7110の複数のシステムが、世界中のファウンダリ、ロジック、およびメモリメーカに 設置されており、最先端テクノロジノードでの開発および量産立ち上げに使用されている。IC製造で要求される高い性能と生産性を維持するために、4つのシステムはすべてKLA-Tencorのグローバルで包括的なサービスネットワークによってサポートされている。