Eulitha、長春光学精密機械学院からPHABLEフォトリソグラフィ受注

August, 24, 2015, Wurenlingen--スイスのEulithaは、中国長春光学精密機械学院(CIOMP)からPhableR 100フォトリソグラフィを新規受注した。
　Eulithaは、ナノテクノロジー、フォトニクス、オプトエレクトロニクス市場向けに画期的なリソグラフィ装置とサービスを提供するスタートアップ企業。Eulitha独自のDisplacement Talbot Lithography技術を搭載しているシステムにより同研究所の研究者たちは、従来のリソグラフィ技術で直面するような平坦性、伝導性など厳しい制限要件なしで高分解能の周期的パタンをプリントできるようになる。
　CIOMPは、中国で光学分野の研究に取り組む最初の研究所で、1952年中国科学アカデミーが設立した。同研究所は、発光、応用光学、光工学、精密機械および装置製造に関する研究プログラムを進めている。発注されたPhableR 100フォトリソグラフィシステムは、CIOMPの応用物理学主要研究所に導入される。同研究所の分野には、結晶工学、マイクロデバイスおよびナノデバイスとシステム、短波長オプティクス、光情報統合、情報セキュリティ、宇宙光学、リモートセンシングが含まれる。
　PhableR 100システムは、150nm以下のサイズで周期的パタンを露光できる。これは、遙かに高価なハイエンドi線ステッパに匹敵する。同システムが採用している、フォーカスフリーイメージング特許技術は、フォトニックおよびオプトエレクトロニック分野によく見られる非平坦サンプル上に均一プリンティングができる。Eulithaは先頃、オランダのトゥエンテ大学に同社のリソグラフィシステムを導入したと発表している。
　Eulithaは、スイスのポール・シェーラー研究所からのスピンオフ企業であり、オプトエレクトロニクスやフォトニクス向けにリソグラフィ技術を開発している。同社独自のPHABLEツールや先端eビームリソグラフィシステムを使用してナノパターンサンプルやテンプレートを作製し販売している。