LetiとEVG、ナノインプリントの優位性を示すINSPIREを発表

July, 17, 2015, Grenoble/St. Florian--CEALetiとEV Groupは、INSPIRE、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)新規プログラムを発表した。これにより多様で強力なナノパタニング技術の優位性を実証し、半導体以外のアプリケーションにも普及拡大を狙う。
　NILプロセスソリューション開発で産業協力実現に加えて、INSPIREプログラムは同技術が幅広いアプリケーション領域で所有コスト面での利点を実証できるように工夫されている。アプリケーションとしては、例えばフォトニクス、プラズモニクス、照明、太陽光発電、ウエファレベルオプティクス、バイオテクノロジーなど。
　LetiとEVGは、実現可能性段階から、EVGプラットフォームでの最初の製造段階、さらには統合プロセスソリューションの産業パートナーへの移転まで、新しいアプリケーションの開発を共同でサポートする。こうして新製品の製造でNIL採用の参入障壁を大幅に低くする。
　量産製造アプリケーションでは、EVGは先頃HERCULES NILプラットフォームを発表した。また、INSPIREプログラムの活動は、2014年12月に立ち上げた同社のNILPhotonics能力センタの枠内での同社活動を補完するものとなる。