HexaTech､2インチAlN基板製品ラインを発売

May, 2, 2018, Morrisvill--HexaTechは､2インチ径窒化アルミニウム(AlN)基板製品ラインを発表した｡単結晶AlN基板の世界的商用サプライヤ､HexaTechは､ベルリンで開催された国際会議UV LED技術&アプリケーション(ICULTA-2018)に連動してこの画期的な製品を発表した｡
　｢この成果は､われわれの精力的で集中的なR&D活動の成果であり､AlN結晶成長パフォーマンスで大きなブレイクスルーを達成した｣とHexaTech CEO､John Goehrkeはコメントしている。さらに同氏は､｢昨年発表したように､OSRAMを含む当社の戦略的パートナーとともに､われわれは再びAlN基板技術の水準を引き上げ､世界第一級の性能に見合う世界トップレベルの有用性を実現した｣と続けている｡
　HexaTechの事業開発担当VP､Gregory Millsは､｢この性能は､長期的な生産指向製品ポートフォリオの最先端であり､これによって当社の顧客は迅速かつ容易にUV-C光電子/電子デバイス開発と製造をAlN基板プラットフォームに移行することができる｡これは､コスト効果の高い製造の拡大､プロセス統合､Time to Marketの加速とともに､優れたデバイス性能を提供するものである｣と話している｡
｢認識されていた制限に挑み､結晶成長プロセスの各段階で積極的にソリューションを追究することによって､われわれは､以前には限界と見なされていた性能の大幅な変更を達成した｡傑出したチームの取り組みがこの画期的な成果に関与しており､また､直径の継続的拡張とプロセス歩留まり向上の両方の準備を進めた｡究極的に､他の成熟した化合物半導体技術､SiCやGaAsなどの価格性能比に肩を並べることになる｣とHexaTechの共同創始者､結晶とウエファ開発担当VP､Dr. Raoul Schlesserは話している｡
　HexaTechの2インチ径基板は標準リードタイムで入手できる｡

(詳細は､www.hexatechinc.com)