Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

October 3, 2013, 小山--ギガフォトン(Gigaphoton, Inc)は、三菱電機とEUV露光用光源(EUV光源)向けのドライバーCO2レーザを共同開発した。また、開発中のEUV光源においても、平均15Wの出力を達成し、EUV光源量産化に向け前進した。
今回のEUV光15Wの出力は、ギガフォトンが開発中のプロトタイプEUV光源にて達成されました。現在、市場における光源出力は10W程度であるが、この重要なマイルストーンである10Wを超えた出力を今回ギガフォトンは達成した。また、ドライバーCO2レーザにおいては、既に20kW以上の出力を実験で達成し、これでEUV露光での本格的な半導体の量産に必要とされる、EUV光源出力250Wを実現するための必須技術が実現した。
ギガフォトンは2002年から、高効率、高出力、安定性と経済性を追求した独自技術で構成されたEUV光源の開発に取り組んでおり、そのユニークな技術は業界でも高く評価されている。
ギガフォトンは、環境にも配慮した高効率・高出力で安定したEUV光源を低コストで実現するため、ダブルパルス・レーザプロデューストプラズマ(LPP)方式、超電導磁石を使ったデブリ除去技術等、ユニークな独自技術によるEUV光源開発に取り組んでいる。EUV光源では、すず(Sn)ターゲット(ドロップレット)に対し、ドライバーレーザから高エネルギーのパルスレーザ光を照射することでSnをプラズマ化しEUV発光させる。EUV光源を実現するためには、EUV発光時の効率の向上、EUV発光時にドロップレットから発生するSnデブリの効率的な除去等が重要な課題となる。ギガフォトンの提案するダブルパルスLPP方式は、ドライバーレーザとして、短波長の固体レーザによるプリパルスとCO2レーザによるメインパルスを組み合わせる、ユニークな方式。これらレーザの最適な組み合わせにより、高いEUV発光効率を実現。高効率で大出力のEUV光源を可能とする。
また、デブリ除去技術として、超電導磁石による磁場を用いている。この磁場により、ドロップレットから発生するSnデブリをSnキャッチャーへガイドすることで、効率的に除去する。これにより、コレクターミラーの寿命を最大化し、コストとダウンタイムの抑制を実現する。