Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

February 21, 2013, 小山--ギガフォトン(Gigaphoton)は、同社のマルチパターニング対応液浸露光装置向け次世代ArFエキシマレーザ「GT63A」を、この1月からASML向けに出荷開始したと発表した。
GT63Aは、ギガフォトンの進化するArFプラットフォームにおける、次なるステップ。同社は、「その優れたツインチャンバー・アーキテクチャー、出力コントロールアルゴリズムとビームアライメントテクノロジーにより、GT63Aはユーザに世界トップクラスの信頼性、リカバリータイムとモジュール寿命を提供する」と説明している。
GT63Aは、既にアナウンス済の”s“シリーズファンクションに対応している。この強力なGT63Aのファンクションにより、ギガフォトンは更なるArFレーザーの装置性能向上、ランニングコスト削減へのユーザの要望に応えている。
GT63Aの特徴は、既に高い評価を受けているsMPL(Spectrum Multi-Positioning LNM)：深い焦点深度を実現するスペクトル制御技術と、sGRYCOS(Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)：低ランニングコストを実現するチャンバー技術、sTGM(Supreme Total Gas Manager)：高稼働率を実現するガス制御技術、sMONITORING(Smart Monitoring)：高安定性を実現するモニタリング技術にある。
ギガフォトン代表取締役社長、都丸仁氏は、「GT63Aは、ギガフォトンの継続的な半導体装置業界へのコミットメントと、露光機メーカーに対する貢献の具体的な例証である。この先進的なArFレーザは、電気・ガス・冷却リソースの大幅な削減も可能としており、レーザの出力性能のみならず、設備コスト削減と環境への配慮にも大きな競争力を持っている。当社は、継続的な製品開発とともに、環境負荷低減、EcoPhoton、120W DUVパワー、EUVソースの開発にも積極的に取り組んでいる。ギガフォトンは、リソグラフィ性能の向上に向け、これらの技術に投資し続けていく」とコメントしている。