Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

January 7, 2013, 東京/シンガポール--ニコン（Nikon Corporation）とシンガポール科学技術研究庁A*STARの先端的半導体研究機関Institute of Microelectronics（IME）は、半導体の生産で用いられる最先端光リソグラフィ技術における協力関係構築を発表した。この協力は共同の研究機関を今後両者で立ち上げることも含む。
ニコンとIMEは、ArFドライ及び液浸リソグラフィ技術の20nm以下のプロセスへの延伸を加速するために、マルチプルパターニングやdirect self assembly（DSA：誘導自己組織化）等の技術において協力していく。これらの技術はロジック、高密度メモリ、埋め込み型不揮発メモリ、超高速エレクトロニクス、ナノフォトニクス、ナノエレクトロメカニクスを含む先端的な製品への適用が期待されている。
ニコンにとってこの協力は、シンガポールにおいて新たな戦略的可能性をもたらすもので、今回の協力関係構築により、ニコンはIMEの持つ先進的な研究開発施設、プロセス技術、人材を活用することが可能となる。また、次世代露光装置に関する早期の知見を得て製品開発期間を短縮することが期待される。両者の協力はニコンが将来のデバイス製造プロセスに求められる技術を理解し、ArF液浸技術をさらに延伸する機会を広げるものと言える。
IMEにとってもこの協力は、さらなる微細化のための製造や装置・材料等に対する先端技術の向上をもたらし、IMEの産業界のパートナー、研究機関、大学等との提携・協力を強化・拡大する可能性をもたらす。
IMEは、シンガポール科学技術研究庁(A*STAR)の科学工学研究会議(SERC)に属する研究機関。産学間の研究開発の連携を強化するため、IMEは企業が市場に新たな技術を投入するための戦略的競争力、革新的技術、知的財産の育成・開発を通じて、シンガポールの半導体産業に新たな価値を創出することを目的としている。IMEが注力する分野は半導体の設計に加えて、次世代パッケージ、生体電子工学、医療機器、MEMS、超小型電子部品、光通信。