Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

November 20, 2012, Zug--スイスのAdlyte社は、事業を拡張により顧客サポート向上、成長促進を図るとして、経験豊富な業界人Joseph R. Bronson氏を同社戦略顧問に任命、顧客の開発を支援するためのファシリティ新設を発表した。同社は、最先端の半導体検査、計測アプリケーション向けにEUVを開発している企業。
同社によると、世界のLPP EUV光源サプライヤ3社のうちAdlyteだけが、フォトマスクやウェハ検査アプリケーション用の光源開発に注力している。これは、将来世代の最先端の半導体デバイス製造に不可欠となる。EUVリソグラフィと同様に、量産でEUVフォトマスク検査をするには高輝度と高出力が最重要要件。EUVマスクやパタンウェハ上のナノメートルスケールの欠陥でも壊滅的な歩留まり損失となる。このような欠陥を、高いスループットで検出し捉えるために高輝度光源が必要とされている。Adlyteは、出力20Wを実証しており、これは250W/mm2超輝度2πステラディアンで、化学線マスク、AIMS(空間造形側システム)検査の要件を上回る。
Adlyteは、拡張計画の一環として、開発スペースが約3倍となる新ファシリティを建設。また同社は、サブ1x-nmデバイス検査のための光源を計画している。
(詳細は、www.adlyte.com)