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BluGlassのRPCVD技術、GaN膜の不純物を標準レベルに削減

October 31, 2012, Sydney--オーストラリアのブルグラス(BluGlass Limited)は、低温リモートプラズマ化学気相法(RPCVD)技術を用いて業界許容の不純物レベルでGaNを製造することができると発表した。
BluGlassのRPCVDで成長したGaN層は、重要不純物(炭素、水素、酸素)のレベルを業界標準プロセス、MOCVDで成長したGaN層に匹敵するまで下げられることを実証しつつある。
不純物レベルは、二次イオン質量分析(SIMS)を利用して、世界的に広く知られている独立系企業、Evans Analytical Group(EAG)が計測。EAGは、BluGlassが炭素、酸素、水素不純物を1×1017/cm3以下に抑えていることを確認した。
この成果を受けてBluGlassは、RPCVDの利点を顧客に示すためにp-GaN層の最適化を進める。BluGlassが挙げているRPCVDの利点には、現在の業界標準MOCVDで製造したデバイスよりも、LEDデバイスの効率が向上することが含まれる。
BluGlassのCEO、Giles Bourne氏は、「今回の成果は当社にとってブレイクスルーである。また、当社の技術の潜在力を業界に、将来の顧客に示すための重要な第一歩である。炭素と酸素は、RPCVDの制限要因としてよく知られている。これらを減らすことは、大きな成果であると業界では捉えられている」とコメントしている。

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