Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

August 8, 2012, Berlin--ドイツの教育・研究省(BMBF)が資金を提供する新しいプロジェクトがカールツァイス(Carl Zeiss)主導でスタートした。
この事業は極紫外(EUV)光を使って描画するEUVリソグラフィにフォーカスしている。この技術を年末には製造対応とし、20nmの微小構造の作製ができるようにする。この共同ETIKプロジェクト(14nm解像度の投影オプティクス)の目標は、EUVリソグラフィで達成できる解像度を少なくとも14nmに改善すること。現在進行中の構造微小化により、マイクロチップのパフォーマンスが向上し、エレクトロニクスデバイスのコスト削減に寄与することになる。BMBFは、この3年プロジェクトに総額700万ユーロの支援を行っている。
解像度14nmとするために、コンソーシアムパートナーは新しい製造技術の研究を進めている。新技術とは、EUVシステムの重要モジュール、照射システム、投影オプティクスを指す。例えば、極めて柔軟性の高い光スイッチングユニットは、システムのパフォーマンスを一段と強化することになる。ここでは新しいファセットと、投影レンズの反射ミラー面に画期的なデザインが使われている。さらに、光計測分野の研究、精密工学、マイクロクーリング技術も計画されている。
(詳細は、www.zeiss.com)