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ゲント大とimec、集積フォトニクスデザイン環境ソフトを発表

April 18, 2012, Brussels--ゲント大学(Ghent University)とimecは、IPKISSをオープンソースソフトウエアプラットフォームとして発表した。
IPKISSは、フォトニック集積コンポーネントおよび回路(PIC)のパラメータ設計用の一般的、モジュラ型ソフトウエアフレームワーク。このソフトウエアプラットフォームはGPLv2ライセンスコードベース(無料)、カスタムデベロッパライセンス、カスタム商用ライセンスで提供される。この発表により、ゲント大学とimecは、集積フォトニクスデザイン界に強力な柔軟性の高いソフトウエアプラットフォームへのアクセスを提供することになる。
IPKISSは2002年にゲント大学のフォトニックリサーチグループとimecがPythonを用いたプログラマブルMask Layouts(GDSII)として構想したが、それ以来大きな進化を遂げた。
現在、フォトニックコンポーネントや複雑なPICの設計に主に用いられている。IPKISSにより、設計者はフォトニックコンポーネントを素早く定義することができ、それらを電磁ソルバで直接シミュレートし、製造に向けてフォトマスクの回路に組み込むことができる。この目的のためにIPKISSは、サードパーティの評判のよいシミュレータの取り込みが容易になっている。
現在フォトニクスへの適用が最も多いが、IPKISSは一般的で柔軟性の高いフレームワークとなっている。また、マイクロエレクトロニクスやナノエレクトロニクス(マイクロ流体工学、プラズモニクス、MEMS他)に関連する多くの他の分野で使用するようにカスタマイズできる。
(詳細は、www.imec.be)

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