Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

February 27, 2012, Aachen--AIXTRON SEによると、イタリアのIIT(Italian Institute of Technology) Pisaが4インチウェハ製造対応のAIXTRON BMプロを2システム発注した。IITピサの研究者は、これらのシステムをグラフェンの開発、製造に利用する。開発の狙いは、新しい水素吸蔵システムを実現すること。
IITピサは、化学気相成長(CVD)とPECVD(plasma-enhanced chemical vapor deposition)の両方を利用しながら、1台のシステムをグラフェン成長用に用いる。2台目のBM Proシステムは、高温(1800℃)処理用で、昇華によりグラフェンを形成する。地域のAIXTRONサポートチームが、IITピサのナノテクイノベーションセンタにあるパワーナノシステム研究所に両システムを導入し、稼働させた。同センタは、ノマーレ高等学院NEST研究所にあり、NEST IITのDr. Camilla Colettiは、今回導入した両システムについて、「新しいBM Proシステムは、ナノエレクトロニクスやエネルギー吸蔵と言ったアプリケーション用にグラフェンフィルムを合成する研究の基盤になる」とコメントしている。「CVD、PECVD、高温昇華をカバーするこれらのシステムによって、成長プロセスで柔軟性が得られる。特定のアプリケーション毎に必要な特性を持つグラフェンフィルム製造に最適の方法を用いることができる。この点は極めて重要だ。グラフェンフィルムの品質、均一性、装置の使いやすさ、レシピの再現性がプロセス評価の決め手になった。AIXTRONのBM Proシステムが、当研究所の要求全てを満たす最良の装置であることが判明した」と同氏は話している。