Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

February 9, 2012, 小山--ギガフォトン（Gigaphoton, Inc）は、マルチパターニング用液浸露光装置に向けた次世代のArFエキシマレーザ「GT63A」を2012年第2四半期（2012年4月～6月）に出荷開始すると発表した。
GT63Aシリーズは、広い焦点深度を実現するスペクトル制御技術(sMPL)、低ランニングコストを実現するチャンバ技術(sGRYCOS)、高稼働率を実現するガス制御技術(sTGM)、高安定性を実現するモニタリング技術(sMONITORING)の、4つの”s”シリーズファンクションを投入し、高い技術で顧客への更なる価値を創造し、信頼に応えている。また、これら”s”シリーズファンクションは、GT63Aシリーズとプラットフォームを共通とする、GT60Aシリーズ、GT61Aシリーズ、GT62Aシリーズにもアップグレードキットが適用可能であり、ユーザの要望に応じたカスタマイズが可能。 これらの技術は、米国カリフォルニア州サンノゼで2月12日（米国時間）より2月16 日まで開催される先端リソグラフィの国際シンポジウム(SPIE Advanced Lithography 2012)で発表予定。
sMPL(Spectrum Multi Positioning LNM)技術は、スペクトル制御幅を従来の10倍以上に高め、フォーカスドリリングによる広い焦点深度確保を実現。このsMPL技術を搭載することにより、従来技術では困難であったコンタクト、トレンチ、ビア等の露光におけるプロセスウィンドウの拡大を、CDU、オーバーレィ、生産性等への悪影響なしに達成可能。また、sMPLは露光機メーカー及びチップメーカー様と共同で量産試験を実施し、その有効性は確認済。
sGRYCOS(Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)技術は、エキシマレーザの主要な交換部品であるチャンバの寿命を従来の1.5倍に高め、低ランニングコストを実現する。sGRYCOS向けに、新規開発したチャンバで予備電離電極の強度を高めたこと、及びGTシリーズに搭載されている余裕のあるパルスパワー電源により、エネルギマージンを高め、従来品と比較し大幅な耐久性向上を実現した。
sTGM(Supreme Total Gas Manager)技術は、波長較正方式に工夫をこらし、従来2週間に一度必要であったレーザガスの交換を不要とすることで、高稼働率と低コスト運転を実現する。GTシリーズで培ったガス制御技術は、パフォーマンスをフィードバックしながらレーザチャンバ内のガスを最適に保つことが可能。今回、sTGM向けに新規に開発した絶対波長較正モジュールにより、従来必要であった絶対波長較正時のガス交換を不要とし、ダウンタイムの低減とガスコストの削減を両立している。
sMONITORING(Smart Monitoring)技術は、オンラインでリアルタイムにレーザのパフォーマンスをモニタする機能で、ユーザのFDC(Fault Detection and Classification)システムにも接続可能であり、装置の安定稼働に貢献する。