Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

October 26, 2011, Middlefield--計測機器メーカー、ザイゴ(Zygo Corporation)は、同社のオプティカルシステム部門がアルバニー大学(Albany University)ナノスケール理工学部(CNSE)およびチップメーカーのSEMATECHコンソーシアムと900万ドルを超える開発契約を結んだ。
開発するのは、CNSEのアルバニーナノテク施設(Albany NanoTech Complex)設置の露光機、第5世代Micro-Exposure Tool(MET-5)に組み込むEUVリソグラフィオプティクス。MET-5プログラムは、世界の大手半導体メーカーが参加するSEMATECHコンソーシアムが運営している。
ZYGOは、非球面ミラー計測に必要とされるナノメートル高精度製造、システムパフォーマンス解析、超高精度計測学に強みを持っており、サブナノの表面品質を持つオプティクスが製造できる数少ないメーカーの1つであり、この画期的なプログラムへの参加に期待を寄せている。
MET-5プログラムの目的は、半導体リソグラフィの解像度を16nm以下を目指す研究者の支援にある。これはEUVレジストとEUVマスク開発を支援するもので、開発は半導体の国際的技術ロードマップとそれに関連して益々狭くなる線幅を満足することを目標としている。
ZYGO社長/CEO、Dr. Chris Koliopoulosは、「次世代マイクロ露光装置開発はザイゴにとって重要な到達目標となっており、EUVコンポーネントのキーサプライヤとしてのザイゴの地位を固めるものでもある」とコメントしている。