Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

October 24, 2011, パリ--JSR MicroとCEA-Letiは、両機関が提携して次世代サブ20nmリソグラフィの材料とプロセスを開発すると発表した。
同プログラムは、サブ20nmノードのロジックアプリケーションに向けて193nm光リソグラフィを前進させるためにピッチ分割にフォーカス。また、直描リソグラフィ、マスクレスリソグラフィ(ML2)技術にもフォーカスする。
固有ML2開発は、CEA-Leti主導3年プロジェクトIMAGINE計画の一環。これには、半導体メーカーTSMCやSTMicroelectronicsも参加している。同プロジェクトでは、マスクレスリソグラフィ基盤の開発を進めており、高スループットを目指してMAPPERリソグラフィツールを使用することになる。
JSRの最重点領域の1つは、次世代リソグラフィに積極的にフォーカスすることでサブ20nm技術開発を成功させること。
DSR Micro社長、Bruno Roland氏は自社の特長について、「材料革新、製品パフォーマンス、継続的な品質、コスト要求、製造に関して顧客のニーズをよく理解している点だ」とコメントしている。また、CEA-Letiとの提携については、「ML2開発に貢献するまたとない機会」と捉えている。
CEA-Letiのプログラムマネージャ、Serge Tedesco氏は、「材料とプロセスの開発はサブ20nmレンジのリソグラフィが直面している主要課題の1つ」と捉えており、マスクレスリソグラフィと言った新技術を組み合わせた標準光リソグラフィを推し進めることを「現実的な代替ソリューション」と見て、この新しい分野の開拓におけるJSRの貢献に期待している。
ベルギー、Leuvenを拠点とするJSR Micro N.V.はJSR Corporationの子会社。JSRは多国籍企業で従業員は世界中に5000名超。本社は東京にあり、欧米、中国、台湾、韓国、シンガポールにオフィスを持つ。