Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

March 30, 2011,アトランタ--Qcept Technologies社は、アジアに本社を置く世界大手半導体メーカー2社向けに、 ChemetriQ5000ノンビジュアル欠陥（NVD）検査システムを納入した。
パターン付きおよびパターン無しの両方のウエハについてNVD検査を実施可能なChemetriQ 5000は、ツールおよびラインのモニタリング用など幅広い用途に使用でき、歩留習熟度を高めるとともに持続的な歩留向上を可能にする。
顧客の一社は、ChemetriQ 5000システムを3Xnmデザインルールメモリー・ウエハおよび、ロジック製品ウエハのモニタリング用に採用、もう一社は、3Xnmデザインルールメモリー・ウエハのモニタリング用にChemetriQ 5000システムを採用した。同システムは、顧客の生産ファブで洗浄後検査、反応性イオンエッチング工程モニタリング、湿式洗浄工程モニタリングを含む複数の用途に使用される。
3Xnm以下のデザインノードでは、半導体デバイス性能の改善は従来のリソグラフィック・シュリンクのみならず、新材料や新しいデバイス構造によってもたらされている。これらの新材料や新構造では、ウエハ洗浄や表面処理には極めて精密な管理が必要となり、デバイス歩留を高める上での管理工程の重要性はますます高まっている。ウエハ洗浄と表面処理はファブで最も頻度の高いステップであるため（ウエハ1枚につき最高100回）、これらの先進的なデザインノードでは、洗浄工程が十分に最適化されていない場合、大きな歩留損失が発生する可能性が高くなる。
ChemetriQ 5000プラットフォームを使用することで、NVDsの迅速な、ウエハ全面を対象としたインライン検査が可能になる。NVDsは、有機物・無機物の残渣、金属汚染、プロセスに起因する電荷などを伴う最適化されていない洗浄によって発生し、大きな歩留損失をもたらすが、これは光学式検査システムでは検出できない。この検査は、半導体ウエハ表面における仕事関数の変化を検出する画期的な非破壊手法を採用することによって可能となっている。 検査アルゴリズムとポジショニングの正確性の向上により、ChemetriQ 5000の性能はさらに高まり、パターン付きおよびバターン無しの両方のウエハ についての各種NVDの検出を実現している。