Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

February 3, 2011, Leuven--MEMS設計技術のリーディングサプライヤ、コンベンタ(Conventor)と、ベルギーのナノエレクトロニクス研究所IMECは、戦略的提携を発表した。
この提携により、CMOSを集積したMEMSの開発に向けて先端的設計・製造技術の利用を改善し、拡大していく。この提携には、R&Dロードマップの調整、先進的研究テーマについての協力が含まれている。IMECとConventorの研究チームは協力して、MEMS＋ICデザイン用のConventorのソフトウエアツールスイートのIMECによる利用を拡大していく。両者は共同で、IMECのSiGe MEMS-above-)ICプロセス用のプロセスデザインキッと(PDKs)を開発する。
MEMS設計と製造についてのIMEC、Conventorの成功に立脚した今回の提携は、MEMSとICの設計者にMEMSが利用しやすくなるようなソリューションを開発することを狙っている。PDKs開発は、このMEMS–IC共同設計の効率改善であり、MEMS-last アプローチを利用するIMECのSiGe MEMS技術をターゲットとしている。このアプローチでは、MEMSはCMOS回路上に後加工され、MEMSデバイスと駆動および読出エレクトロニクスを同じダイ上でモノリシック集積することが可能になる。SiGe MEMSプラットフォームの柔軟性とモジュラーアプローチにより、アプリケーションに特化したチューニングやMEMS層の厚さ、特性の最適化、MEMSデバイス上の光機能の加工も可能になる。
この提携は、MEMS設計環境に必要な基盤を開発しているConventorの経歴を活用するものとなる。同社のデザインツールは、過去15年におよぶ数100のMEMS設計で実績がある。先頃、同社は新しい製品ライン、MEMS＋を発表した。その狙いは、MEMSデザインとメインストリームICデザイン環境との統合。一方、IMECは標準CMOS上にモノリシック集積を可能にする、斬新なSiGe MEMSプロセスを持っている。
(詳細は、www.imec.be)