Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

December 8, 2010, Garching/Dublin--半導体関連の大手装置サプライヤ、SUSS MicroTecは、ロリス(Rolith, Inc)と共同開発と独占的ライセンス契約を結び、Rolithが開発した画期的なナノリソグラフィ法を利用するナノ構造装置を開発する。
　大型基板でナノ構造を実現する高スループットで経済的な技術が利用できるようになると、再生可能エネルギーやグリーン市場で新たな可能性が生まれる。
　Rolithの特許申請中のナノリソグラフィ技術は、シリンダ形状のローリングマスクを用いる、独自の近接場光リソグラフィをベースにしている。位相シフト干渉効果、プラズマモニック・エンハンスメント・プリンティングストラクチャによって、サブ波長解像度を実現。連続操業により、高スループット、ローコスト生産が期待できる。
　RolithのCEO/社長、Dr. Boris Kobrinは、この技術の可能性について、「高効率の3Dソーラセル、建物一体型太陽光発電、反射防止、防幻、自浄、防曇などのコーティングを持つガラス」の実現を挙げている。