Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

October 22, 2010, Villigen--スイスのナノリソグラフィ開発企業、Eulitha AGは、独自のフォトリソグラフィ技術を開発し、フォトニックナノ構造のローコストで高スループット作製が可能になると発表した。
　標準のリソグラフィ装置は、解像度が十分でなく、コストも飛び抜けて高いことが、高解像度フォトニック構造の作製が直面している主要課題となっている。Eulithaの特許技術を用いると、LED、太陽電池、フラットスクリーンディスプレイなどのアプリケーション用に大面積の周期的ナノ構造の作製が可能となる。
　この新技術、PHABLE(Photonics Enabler)は、マスクベースのUVリソグラフィ。PHABLEシステムは、現状の技術と異なり、実質的にフォーカス深度に限界がない像を形成する。このため、LEDウエハのように平坦でない基板でもパタニングは均一で再生可能となる。また、六角形または正方形グリッド上にリニアな回折グレーティングやアレイホールなどの異なるパタンの組み合わせが、チップやウエハに1回の照射でプリントできる。プリントされたパタンの解像度は、照射波長の1/4サイズとなる。PHABLEに必要なマスクは、標準のクロム・オン・水晶マスクライティング技術を利用して安価に作製可能。この技術は、2010年11月9〜12日に日本の福岡市で開催されるMNC2010で紹介される。
　LEDからの光取り出し効率向上に必要なフォトニック結晶は、この新技術の主用途の1つ。この目的で一般に用いられているナノインプリント法と異なり、マスクとウエハとの接触が避けられ、ソフトスタンプが不要になる。このため、高価な二段階の工程は不要。ナノワイヤベースのLEDsやPVデバイス、パタン化シリコン基板上ヘテロエピタキシー、ブルーレイレーザで使用されるELO(epitaxiallateral overgrowth)法などでも、この開発技術は有用であるとEulithaは強調している。
(詳細は、www.eulitha.com)