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SUSS Micro Tec､HB-LED製造用マスクアライナ
June 29, 2010, Garching--半導体業界向け装置メーカー､ズスマイクロテック(SUSS Micro Tec)は､高輝度LED(HB-LEDs)製造専用リソグラフィソリューション､次世代のMA100eマスクアライナを発表した｡
SUSS Micro Tecの実績あるマスクアライナデザインをベースにした､自動MA100e Gen2は､4インチまでのウエハに対応しており､スループットは1時間あたり業界最先端の145ウエハ｡
LED装置メーカーは､TV用LEDバックライト､モニタ､その他のシステムなどの爆発的需要に対応するため､LED製造の大幅増をサポートする必要に迫られている｡SUSS Micro TecはMA100e Gen2について､｢コストを重視するLED業界の技術要求に応え､高い競争力を持つ自動マスクアライナソリューションを設計した｣と説明している｡高強度露光オプティクスやプリアライメントオプションにより､貴重な処理時間が短縮される｡高解像度近接露光は2.5μmまでとなっており､歩留まりとコスト効果を最大化する｡MA100e Gen2により､プロセスのスケーラビリティは大きく拡大し､新しいデバイスの設計の市場投入時期が早まる｡
(詳細は､www.suss.com)
SUSS Micro Tecの実績あるマスクアライナデザインをベースにした､自動MA100e Gen2は､4インチまでのウエハに対応しており､スループットは1時間あたり業界最先端の145ウエハ｡
LED装置メーカーは､TV用LEDバックライト､モニタ､その他のシステムなどの爆発的需要に対応するため､LED製造の大幅増をサポートする必要に迫られている｡SUSS Micro TecはMA100e Gen2について､｢コストを重視するLED業界の技術要求に応え､高い競争力を持つ自動マスクアライナソリューションを設計した｣と説明している｡高強度露光オプティクスやプリアライメントオプションにより､貴重な処理時間が短縮される｡高解像度近接露光は2.5μmまでとなっており､歩留まりとコスト効果を最大化する｡MA100e Gen2により､プロセスのスケーラビリティは大きく拡大し､新しいデバイスの設計の市場投入時期が早まる｡
(詳細は､www.suss.com)
