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Cymer､ASMLにEUVリソグラフィ光源を出荷
July 15, 2009, Veldhoven/SanDiego--ASMLとCymerは､レーザ生成プラズマ(LPP)極紫外(EUV)リソグラフィ光源をASMLに出荷する｡
CymerのEUV光源は､両社の複数台購入契約の最初の製品で､次世代EUVリソグラフィスキャナの導入テストをサポートすることになっているASMLヴェルトホーヴェン本社で設置が行われている｡
この出荷と合わせてCymerは､EUVリソグラフィ露光パワー(フルダイ露光)75Wを達成したと発表した｡同社によると､今期内に100Wまで伸ばす予定であり､これにより1時間あたり60枚のシリコンウエハ(300mm/12インチ)のスループットが可能となる｡これはASMLのEUV技術による量産で求められているスループット｡ASMLからの製造機レベルのEUVスキャナの出荷は1年後に予定されている｡光源のコンセプトは､ASMLのスキャナに完全統合されると､1時間あたり100ウエハ以上の露光パフォーマンスにスケールするものとなっている｡
EUVは､現行のリソグラフィシステムと比べると15倍短い波長を用いた新しいリソグラフィ法で､半導体は10nm､さらにそれを超える分解能達成が可能になる｡EUVは､少なくとも今後10年間はムーアの法則をサポートするとされている｡
LPP EUVリソグラフィ光源は､13.5nmの波長を使用しており､現在の深紫外(DUV)リソグラフィ エキシマレーザ光源からの大きな技術的パラダイムシフト｡LPP EUV光源内では､真空チャンバ内の溶けたすずの微小滴をハイパワー赤外パルスレーザで気化し､高温のすずのプラズマ点光源を創っており､これが13.5nm波長の光を出す｡大型EUVミラがこの光を集光してスキャナの方向に集め､リソグラフィに使用される｡
(詳細は､www.cymer.com)
