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ラクステラ､フリースケールと提携
June 5, 2009, Carlsbad--ラクステラ(Luxtera)は､フリースケール(Freescale Semiconductor)と提携し､同社をファンドリソースとして世界初のシリコンCMOSフォトニック半導体製造プロセス商用生産を実現すると発表した｡
数年にわたり両社は､テキサス州オースチンのフリースケールSOI CMOS半導体製造プロセス強化し､130nmエレクトロニクス製造プロセスに光回路機能を付加することで協働してきた｡この新しい光回路対応のCMOS製造プロセスにより､CMOSフォトニクスを市場に出すためのローコスト電気-光集積回路(EPIC)の開発､製造が可能になる｡シリコンCMOSフォトニクスは､次世代のデータネットワーキング､コンピュータ､マルチコアプロセッサ､家電製品を実現するためのキーデバイスとして知られている｡
シリコンCMOSフォトニクス技術により､オプティクスとエレクトロニクスを1個のCMOSダイ上に設計し､製造することが可能になる｡このプロセスは､標準的なデジタル､アナログ電子回路トランジスタとパッシブナノフォトニック光構造､モノリシック集積アクティブ光デバイスとを組み合わせ､ファイバとチップとの直結を実現する｡新製造プロセスにより､多様なアプリケーションを対象にした集積された単一チップのトランシーバの製造が可能となる｡これらCMOSフォトニックトランシーバは､従来の光アセンブリに比べると､パフォーマンスや信頼性が向上し､コストは激減する｡
Luxteraは現在､ローコストのオプトエレクトロニックトランシーバ製品を生み出すこのプロセス技術をハイパフォーマンスコンピューティング､データコム､家電など､多くの市場に適用しようとしている｡
