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EC SiフォトニクスプロジェクトのコーディネータにCEA-Leti

February 27, 2013, Grenoble--CEA-Letiは、ヨーロッパのシリコンフォトニクスプロジェクトのオーガナイザを務める。プロジェクトは、ヨーロッパベースのシリコンフォトニクス・サプライチェーンを構築し、この技術の産業化を早めることを目的とした4年プロジェクト。
PLAT4M(Photonic Libraries And Technology for Manufacturing)プロジェクトは、現行のシリコンフォトニクス研究プラットフォームをシームレスに産業化し、アプリケーション範囲を広げ、量産レベルへ移行させることを目標としている。
欧州委員会(EC)から1020万ユーロの資金を獲得しているPLAT4Mには、完璧なサプライチェーンを構築するために、先進的なヨーロッパのR&D機関やCMOS企業、設計・パッケージングの業界組織、多様なアプリケーション分野のエンドユーザなど、15社/機関が参加している。
CEA-Letiの集積フォトニクスプログラムマネージャ、Laurent Fulbert氏は、「現行のプラットフォームをアップグレードして産業化できるようにすることは、今最も重要なことである。それには、設計の耐久性、プロセスの変動、集積の制約などを考慮に入れながらデザインとプロセスフローを整理して安定化させなければならない。PLAT4Mパートナーは、完璧なサプライチェーン構築という課題に不可欠な専門技術を結集し、ヨーロッパにおいてシリコンフォトニクスを商用化していく」とコメントしている。
シリコンフォトニクスの研究は急速に進んでいるが、ほとんどのR&Dは基本的な構成要素の開発に注力しており、テレコム、データコム、ガスセンシング、LIDAR、振動測定など、大きな潜在市場のサポートに必要とされる完璧な光集積回路の製造に至っていない。

PLAT4Mの目標
・チップレベル技術からパッケージ化された回路までのサプライチェーンを準備
・集積技術をファブレスのユーザが使えるようにする
・フォトニクスとエレクトロニクスの統合に向けたデザイン環境の開発を支援する
・注力ポイントをコンポーネントからアーキテクチャに移し、技術レベルよりも新製品、新機能に開発努力を向ける
(詳細は、www.leti.fr)

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