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Jenoptik、ハイパワー半導体レーザの生産能力倍増に向けて投資

December 20, 2011, Berlin--イェノプティク(Jenoptik)は、約1000万ユーロを投資してクリーンルーム、製造装置などを増強する。これにより、2013年から製造能力は2倍以上に拡大する。
同社によると、ベルリンの既存製造工場は製造能力の限界に達しており、現在拡張を進めている。これは顧客満足度を高いレベルで達成すること、特にアジアからの急増する需要に応えることが狙いであるが、将来も見据えている。また、レーザと材料加工部門は加工の国際化も進めている。
新社屋により製造能力は倍以上に拡大する。床面積は約1400m2から3400m2に拡張。クリーンルームを含む生産エリアの総面積は、540m2から930m2となり、2013年から稼働する。
工場は自動化され、最新鋭の製造技術が導入される。GaAsウェハの処理はスケジュール化されており、一般的な半導体製造プロセスでハイパワーレーザバーを製造する。多面的な作業エリアには、100~1000 ppm3のクリーンルームが、工程のステップの基準に応じて用意されている。エピタキシーから、ウェハプロセス、端面コーティング、GaAsコンポーネント製造までの全行程がクリーンルームに設置されることになる。
総額約1000万ユーロがこの拡張に投資される。建物はHoesch Dortmund年金基金から、内部設備と製造装置はJenoptikから資金を得ている。既存の製造工場を含めて、Jenopticベルリン–アドラースホーフサイトへの投資は約2400万ユーロになる。

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