Laser Focus World JAPAN　レーザーフォーカスワールドジャパン

September 20, 2011, グルノーブル--CEA-Letiは、エレクトロニクスコンポーネントとシステムの設計、評価、製造で用いられるソフトウエアやIPの世界的大手、シノプシス(Synopsys, Inc)が、IC製造用マスクレスリソグラフィ開発のためのIMAGINEプログラムに参加したと発表した。シノプシスは、IMAGINE参加の第10番目のパートナーとなる。
CEA-LetiとMAPPERリソグラフィは、2009年7月、MAPPERのMassively Parallel Electron Beam PlatformをLetiに納入した際に同プログラムを立ち上げた。
MAPPERプラットフォームは、IMAGINEプログラムの基盤となるコア技術。このプログラムでは、世界の主要チップメーカーに、実際の製造環境でマスクレスリソグラフィ技術を評価する機会を与える。また、2015年の業界への紹介に向けてデータの準備からプロセス統合まで、完璧なインフラストラクチャを開発し、検証する予定。
「マスクレスリソグラフィは、IC製造を15nm以下のノード技術に拡張するための候補として登場してきた。IMAGINEプログラムは、この技術の評価と開発でIC製造の全ての分野からリーダーを結集している」とシノプシスのシリコンエンジニアリンググループVP、Fabio Angelillis氏はコメントしている。CEA-Letiプログラムマネージャ、Serge Tedesco氏によると、ML2技術の要点の1つは大容量データファイルの処理能力。同氏は、適切なデータフォーマット標準を迅速に確立する必要がある、と指摘。「シノプシスは、データフォーマットを定め、関連する諸問題のソリューションを決めるにあたって、豊富な経験を積んでおり、われわれの成功にとって極めて重要な存在だ」と同氏は話している。