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IQEのNIL技術製造技術、DFBレーザメーカーが品質認定

July, 12, 2018, Cardiff--IQEは、同社独自のナノインプリント・リソグラフィ(NIL)技術が重要な節目に達したと発表した。その新技術提供は、通信業界にDFBレーザを供給している大手メーカーが品質認定した製品であり、当初25万ドルで受注しており、製造は直ちに開始される。
 DFBレーザは高性能端面発光(EE)レーザ。光ネットワークにおける高速データ通信向けの重要な伝送コンポーネント。大陸間通信、ブロードバンドFTTHやFTTP、ハイパースケールデータセンタでの超高速伝送リンクアプリケーションなどがこれに含まれる。この領域で将来の需要激増の原動力は、5G接続性、IoT普及などである。
 また、DFBデバイスの高い光品質により、DFBはコンシューマ領域でも幅広いアプリケーションで選択される端面発光レーザである。3Dセンシング、環境排出物や空気品質モニタリング、化学兵器や爆発物検出、呼気や血管モニタリングを介した病気診断などの広範な新しいアプリケーションがある。
 DFBアプリケーションに加えて、IQEは、広範なウエハサイズや最終アプリケーションでNIL技術を組み込んだ多数の他の品質評価プログラムにも取り組んでいる。
 NILは、多様な材料でサブミクロンで、大規模、低コスト製造向けの強力な技術。材料としては、化合物半導体、シリコン、ガラス、酸化物、ポリマのようなフレキシブル材料がある。IQEの独自技術は、複雑なパタンが製造可能である。これは、一般的に、高価で遅いスループットの電子ビームリソグラフィで製造されるが、NILでは遙かに低コスト、著しく高スループットで製造できる。アプリケーションに含まれるのは、多数のフォトニクス製品、DFBレーザのグレーティング、マイクロおよびパタンドサファイア基板(PSS) LED、回折光学素子(DOE)、擬似フォトニック結晶など。NIL技術を使うことで、コスト効果よく、複雑なフォトニックおよび擬似フォトニック結晶(QPC)の量産が可能になり、前例のない強力なフォトニックパフォーマンスがウエハレベルで可能になる、と同社は説明している。
 NIL技術は、100㎜、150㎜、200㎜サイズのウエハ量産に適しており、300㎜にも拡張できる。
(詳細は、http://www.iqep.com/)