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VPIphotonicsとLuceda Photonics、シリコンフォトニクス向けて提携

September, 20, 2016, Berlin--顧客の要求、特にシリコンフォトニクスを重点にした要求に応えて、VPIphotonicsとLuceda Photonicsは提携してレイアウト設計とマスク生成のためにVPIcomponentMaker Photoic CircuitsからIPKISS.edaへの自動エクスポート手段を開発する。
 インタフェースは、高い柔軟性と容易なカスタマイズに特別な注意を払って開発されている。したがって、ファブ・スペシフィックなIPKISSベースフォトニックProcess Design Kitsの回路とレイアウトデザインレベルでの高速実装が可能になる。

VPIcomponentMaker Photoic Circuitsは、数100のパッシブフォトニック、アクティブオプトエレクトロニックおよび電子的要素で構成される大規模なヘテロジニアスPICs開発に便利で正確な高速デザインフローを可能にする。シームレスに時間ドメイン、周波数ドメインのシミュレーション法を統合。便利で強力なGUIが、自動パラメータスイープ、デザイン最適な、トレランス、イールド解析の効率的な手段を提供する。

Mentor GraphicsによるTanner L-Edit 用IPKISS.eda 3.1が、Pythonスクリプトデザインから信頼性と生産性をプロフェッショナルな使いやすいEDA環境に持ち込む。集積フォトニクスチップの設計と設計管理用の完全フレームワークを提供する。これには物理的シミュレーションと回路シミュレーション、マスクデザイン、製造、DRCが含まれる。
(詳細は、www.lucedaphotonics.com)