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HexaTech、2インチAlN基板製品ラインを発売

May, 2, 2018, Morrisvill--HexaTechは、2インチ径窒化アルミニウム(AlN)基板製品ラインを発表した。単結晶AlN基板の世界的商用サプライヤ、HexaTechは、ベルリンで開催された国際会議UV LED技術&アプリケーション(ICULTA-2018)に連動してこの画期的な製品を発表した。
 「この成果は、われわれの精力的で集中的なR&D活動の成果であり、AlN結晶成長パフォーマンスで大きなブレイクスルーを達成した」とHexaTech CEO、John Goehrkeはコメントしている。さらに同氏は、「昨年発表したように、OSRAMを含む当社の戦略的パートナーとともに、われわれは再びAlN基板技術の水準を引き上げ、世界第一級の性能に見合う世界トップレベルの有用性を実現した」と続けている。
 HexaTechの事業開発担当VP、Gregory Millsは、「この性能は、長期的な生産指向製品ポートフォリオの最先端であり、これによって当社の顧客は迅速かつ容易にUV-C光電子/電子デバイス開発と製造をAlN基板プラットフォームに移行することができる。これは、コスト効果の高い製造の拡大、プロセス統合、Time to Marketの加速とともに、優れたデバイス性能を提供するものである」と話している。
「認識されていた制限に挑み、結晶成長プロセスの各段階で積極的にソリューションを追究することによって、われわれは、以前には限界と見なされていた性能の大幅な変更を達成した。傑出したチームの取り組みがこの画期的な成果に関与しており、また、直径の継続的拡張とプロセス歩留まり向上の両方の準備を進めた。究極的に、他の成熟した化合物半導体技術、SiCやGaAsなどの価格性能比に肩を並べることになる」とHexaTechの共同創始者、結晶とウエファ開発担当VP、Dr. Raoul Schlesserは話している。
 HexaTechの2インチ径基板は標準リードタイムで入手できる。

(詳細は、www.hexatechinc.com)