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Cymer、新しいフッ化アルゴン光源を資格認定し出荷

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March, 19, 2018, San Diego--リソグラフィ用光源の業界リーダー、Cymerは、新たに品質認定されたXLR 800ix光源の初出荷を発表した。この光源は、最先端の半導体チップのパターニングにチップメーカーが使用するもので、これによりパフォーマンスと生産性が改善され、先進的なフッ化アルゴン(ArF)液浸リソグラフィシステムの所有コストが下がる。
 先進的半導体メーカー数社がXLR 800ixへの早期アクセスアップグレードを受けている。また、その性能は仕様を上回り、全照射野で2フェムト秒以下の全帯域幅変動を達成した。これは、現在使われている既存技術よりも約10倍優れている。
 チップメーカーが、マルチパターニングArF液浸光源の利用をサブ10nm技術ノードへ拡張するにつれて、全プロセスでの変動を減らすことがますます重要になる。チップメーカーと提携して、Cymerは帯域幅変動の低下が臨界寸法(CD)変動の低減につながることを確認した。これにより、ウエハ内とウエハごとの両方でパターニング性能が改善される。XLR 800ixは、新たな帯域幅安定技術を導入しており、帯域安定性を厳密に制御するために使うことができる。
 XLR 800ixは、生産性と所有コスト改善も提供しており、サービスインタバルは33%増、400億パルスが可能。これは、Cymerの新しいフィールドでテストされたチャンバとオプティクスモジュールによって推し進められるもので、250を超えるXLRシステムで製造に利用されている。このような強化は、Cymerの持続可能性取り組みをサポートしている。これは、数パーセントポイントで総システム消費電力を低減することによるものである。
(詳細は、www.cymer.com)